如何掌控真空鍍膜的均勻性（xìng）
我們先（xiān）來認識下怎麽調（diào）試鍍膜機，因（yīn）為掌握調試鍍膜機是使用（yòng）鍍膜機（jī）的（de）關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設（shè）備的抽真空速度（dù），在測（cè）試過程中檢查漏氣情（qíng）況與各真空泵的性能；
2、測試設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標，同（tóng）時排除細小（xiǎo）的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的（de）話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄（lù），並有記錄人簽字（zì）以及有使用部門或工程部門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車（chē）燈鍍（dù）膜機原理的不同分為很多種類，僅僅因為（wéi）都需要（yào）高真（zhēn）空度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍（dù）膜，影響均勻性的因素（sù）也不盡相同。並且均勻性這個概念本身也會（huì）隨（suí）著鍍膜尺度（dù）和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一下（xià）：

均（jun1）勻性主要體現在3方麵（miàn）：
1、厚度上的均勻（yún）性，也（yě）可（kě）以理解（jiě）為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為（wéi）單位，約（yuē）為（wéi）100A），真空鍍膜的均勻性已經相當（dāng）好，可以輕鬆將（jiāng）粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說（shuō）對於多弧離子鍍（dù）膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上（shàng）的（de）均勻度，也就是說要實現10A甚（shèn）至1A的表麵平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶（píng）頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就（jiù）是說在薄膜（mó）中，化合物的原子組分會由於尺度過（guò）小而很容易的產生（shēng）不均勻特（tè）性，SiTiO3薄膜（mó），如果濺控濺射鍍膜機過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是（shì）其他的比（bǐ）例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術（shù）含量所在。
3、晶格（gé）有序度的均勻性：這決定了薄膜是單（dān）晶（jīng），多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點（diǎn）問題。 

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