GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機(jī)
日期:2016-01-13 10:18:51 人(rén)氣:26864
GSF高精密電子束蒸發(fā)光(guāng)學真空鍍膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材中的原子或分子從表麵汽化逸出後(hòu)入射到(dào)基片表麵凝(níng)結成膜(mó)。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束(shù)流密度大、蒸發速度快,製(zhì)成的薄膜純度高。
光學鍍膜設備可鍍製層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜(mó)係鍍膜,也(yě)能滿足如汽(qì)車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片(piàn)、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種(zhǒng)膜(mó)係,對金屬、氧化物、化合(hé)物及其他(tā)高熔點膜材皆可蒸鍍。
1)、高精(jīng)密光學鍍膜(mó)機配備有(yǒu)石(shí)英(yīng)晶體膜(mó)厚儀、光學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實(shí)現對整個(gè)工作過程的全自動控製,可以實現無人值(zhí)守,從而(ér)提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩(wěn)定性。
2)、大抽速真空係統加(jiā)配深冷裝(zhuāng)置,優秀的動(dòng)態真空能力,為複雜的光學膜係製備提供了必要的真空條件保(bǎo)障。
3)、蒸發分(fèn)布穩(wěn)定、性能可靠的E型(xíng)電子槍,優(yōu)化設計的蒸發(fā)源與工件架之(zhī)間(jiān)的位(wèi)置關係,為精密膜(mó)係的實現調工了膜料蒸(zhēng)發分布方麵的保障。
4)、平穩而高(gāo)速旋轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光譜曲線更趨於一致(zhì)。
5)、適用(yòng)於光學領域行業,大規模工業生產高端要求的廠商(shāng)使用。
GSF高精(jīng)密電子束蒸發光學真空鍍膜機 |
型(xíng)號(hào) | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散(sàn)泵機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機(jī)組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離(lí)子專用電源或霍爾離子源 |
充(chōng)氣(qì)係統 | 壓強控製儀 |
控製方式 | 半自(zì)動或全自動 |
膜厚監控係統 | 石英晶體膜厚監(jiān)控係統、光學膜厚監控(kòng)係統 |
抽氣速(sù)率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數僅做參考(kǎo),具體均按客戶實際工藝要求設計訂做 |