CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用荷（hé）能粒子（通常用氣體正離子（zǐ））轟擊（jī）物體，從而引起物體表麵原子從母體中逸（yì）出的現象。早在1842年Grove在（zài）實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射（shè）靶采用靜止（zhǐ）電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和（hé）對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱（zhù）靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電（diàn）子具（jù）有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並（bìng）產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰（yīn）極（濺射靶（bǎ））並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生（shēng）濺射。 

廣泛應（yīng）用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩（wán）具（jù）、車燈反光罩（zhào）、手機按鍵外殼以及儀器儀（yí）表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性（xìng）鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝（zhuāng）飾（shì）膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜（mó）厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象（xiàng），在基片上（shàng）形成一層濺射原子與基片原子相互溶（róng）合的（de）偽擴散層；
3）、製備特殊材料（liào）的薄膜，可以使用不同的材料（liào）同（tóng）時濺射製（zhì）備混合（hé）膜、化合膜（mó），還可濺射成TiN仿（fǎng）金膜；
4）、膜層（céng）純度高，濺射膜層中不（bú）會混入坩鍋加熱器材（cái）料的成份。
5 )、裝備低溫離（lí）子輔助源，無需加熱直接常溫冷（lěng）鍍成膜，節能省電，提高產能。