工作原理可分為：電阻加熱蒸發真空卷繞鍍膜（mó）設備；感應加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；電子束加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；磁（cí）控濺射真空卷繞鍍膜設備等。其中電子束（shù）加熱（rè）真空卷繞鍍膜設備用於大量蒸鍍高熔點物質如Si02.而磁控濺射原理的卷繞鍍膜設備生（shēng）產效率較低，但具有鍍膜適應範（fàn）圍寬膜層附著（zhe）牢（láo）的優點。

1、CJRW係列主要（yào）應（yīng）用在柔性線路（lù）板、ITO透明（míng）導電膜、薄膜（mó）電容、汽（qì）車貼膜、薄膜太陽能電池、柔性太陽能電池等方麵。采用磁控濺射鍍膜技術，配備直流、中頻或射頻磁控濺射（shè）係統，適合（hé）鍍製金屬膜、導電膜、合計膜、介質膜等（děng）。 
2、SFRW係列采用電子束蒸發鍍膜（mó）技術，適（shì）合在PET、PVC、PI、CPP等薄膜表麵鍍製透明高阻包裝膜、防偽膜（mó）、幻彩膜、光學膜、介質膜等。
3、ZFRW係列主要應用在印刷包裝膜、包裝紙、金銀（yín）線、電容膜、功能薄膜等（děng）方麵。設備采用先（xiān）進的高頻感應蒸發（fā）或者連續送絲蒸發等技（jì）術，整個過程全自（zì）動控製（zhì）。