離（lí）子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發（fā）物質部（bù）分離化，在氣體離子（zǐ）或被蒸發物質粒子（zǐ）轟擊作用（yòng）的同時，將蒸發（fā）物或反應物沉（chén）積在基片上（shàng）。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結（jié）合起來，不（bú）僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的（de）應用範圍。其優點（diǎn）是（shì）薄膜附（fù）著力強，繞射性好，膜材廣（guǎng）泛等。多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧離子鍍采用（yòng）的是弧光放電（diàn），而並不是傳統離子鍍的輝光放（fàng）電進行沉積。簡（jiǎn）單的說，多（duō）弧（hú）離子鍍的原理就是把陰（yīn）極靶作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之（zhī）間的弧光放電，使（shǐ）靶材（cái）蒸（zhēng）發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

可以鍍製不鏽鋼（gāng）、鉻（gè）、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧（hú）離子鍍膜機主要針對大麵積五金工件鍍裝飾膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門（mén）等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型（xíng）板材、管材上鍍製（zhì）各（gè）類裝飾膜（mó）層及功能膜膜層的適合設備。