真空鍍（dù）膜機電化學沉積指的是用電化學方法（fǎ）在金屬（shǔ）或非金屬製（zhì）件表麵沉積一層或多層金屬鍍層或（huò）合（hé）金鍍層或（huò）複合鍍層的技術。通（tōng）常是，表麵具有導電能力的製件，於電解質溶液中（zhōng），被置於陰極，在外電流的作用下，該溶液中的金屬離子，或絡合離子在製件表麵，即陰極表麵發生還原反應（yīng），使金屬沉積（jī）在製件的表麵，這（zhè）一過程又叫金屬電沉積，俗稱電鍍。用（yòng）真空（kōng）鍍膜（mó）設備電鍍的方法可以在金屬或（huò）非金屬製件表麵（miàn）得到功能各異的（de）多種鍍層，滿足在不同（tóng）環境中對製件的（de）使用要求。
　　它們涉及四大類：耐腐蝕、抗氧（yǎng）化；耐磨損、減摩；裝飾、美化；聲、光、磁、電的轉換，以及其他方麵如催化、殺菌等（děng）。內容包括單金屬鍍層、合金鍍層、複合鍍層（céng）、磷化、鈍化、化學（xué）氧化、電化學氧化等。目前研究方向包括：合金電鍍、激（jī）光電鍍、微粒彌散複合電鍍（dù）、纖維增（zēng）強複合電鍍、梯度（dù）功（gōng）能複合（hé）電鍍、微弧氧化、納米電龜鍍與納米多層膜（mó）電鍍等。怎麽挑選市場（chǎng）上（shàng）形形色色的真空設備?真（zhēn）空鍍膜機電鍍層設計的選用要在了解它們的特性、設計（jì）依據、適用（yòng）範圍、不宜或不允許使用範圍的（de）基礎上進行，進而確定厚度係列與工（gōng）藝。
　　雖然，它在（zài）表麵處理技術中的曆史較（jiào）長，工藝（yì）也（yě）比（bǐ）較成熟，但隨著現代工（gōng）業和技術的飛速發展，對真空鍍膜設備電鍍層的功能（néng）性要求越來越高，如高的耐腐蝕性、抗氧化性、良好的導電性、高硬度、高的耐（nài）磨性以及某些特殊的物理、化學特性，像特殊的電學性質、磁（cí）學性質（zhì）、半導體性能以及超導性（xìng）能等，電鍍新技術也不斷在發展。

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