磁（cí）控濺射（shè）鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：19485
磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控製（zhì）穩定性好等優點的真空鍍膜機（jī），其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有重（chóng）要影響。
磁（cí）控濺射鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中采用的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本（běn）底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射（shè）)→鍍AF膜→破真空卸片→表麵（miàn）檢驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎（chǔ），選用合適的靶材和濺射工藝，製出超硬的耐（nài）磨（mó）鍍層，可（kě）以實現材（cái）料的高硬度、高耐磨（mó）、高（gāo）耐劃傷特性；
同時，利用NCVM光學膜結（jié）構設計，設計出各層（céng）不同折射率材料，可（kě）以調（diào）配出任意（yì）顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備（bèi）外（wài）觀件時尚（shàng）、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。
磁控濺（jiàn）射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠（gòu）實現對於陶瓷（cí）電子消費品的表麵裝飾處理，在（zài）保證陶（táo）瓷強度和硬度的（de）同時，也能夠提升其（qí）美（měi）觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個（gè）性化需求。
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