什（shí）麽是PVD 技（jì）術 

PVD-物（wù）理氣相沉積：指利用物理（lǐ）過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表麵上的（de）過程。

它的作用（yòng）是可以使某些有特（tè）殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性（xìng）等）的微粒噴（pēn）塗在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能（néng）。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離（lí）子鍍、活性（xìng）反應離子鍍、射（shè）頻（pín）離子鍍、直（zhí）流放電離子鍍）。

PVD 技（jì）術是（shì）目前國際（jì）上科（kē）技含（hán）量高且被廣泛應用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜（mó）層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉（chén）積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程（chéng）是高溫狀態下，等離子場下（xià）的（de）輝（huī）光反應，亦是一個高淨化處理過程；鍍層（céng）的主要原材（cái）料是以（yǐ）鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的，使得PVD 產品本身具備純淨的環保性能。