磁控濺射真空鍍膜機需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱（chēng）為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一（yī）般是加熱（rè）靶材使（shǐ）表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並（bìng）且（qiě）沉降在基片表麵，通過成膜過程（散點－島狀（zhuàng）結構-迷走結構-層（céng）狀生長（zhǎng））形成薄膜。 對於濺射類鍍（dù）膜，可以簡單理解為（wéi）利用電子或（huò）高能激（jī）光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子（zǐ）形式被濺射出來，並且（qiě）最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜（mó）。

使用步（bù）驟（zhòu）：
電（diàn）控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開總電源。
3、開維持泵、真空計電源（yuán），真空（kōng）計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鍾。
4、開機械泵、預抽，開渦輪分（fèn）子泵電源、並啟動，真空計（jì）開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀（guān）察渦輪分子泵讀數到達250以後，關預抽，開前級泵和高真（zhēn）空閥繼（jì）續抽真空，抽真空到達一定（dìng）程度後才能開右邊的（de）高真空表頭，觀（guān）察真空度（dù）。真空到達2×10-3以後才能打開電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電（diàn）源。
2. 同時開電子槍控製（zhì）Ⅰ和電子槍控（kòng）製Ⅱ電源：按電子（zǐ）槍控製Ⅰ電源、延時開關，延（yán）時、電源及保護燈（dēng）亮，三分鍾後延時及保護燈滅（miè），若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏（piān）轉電（diàn）流在1~1.7之間擺動。

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