HL係列多弧離子(zǐ)真空鍍膜機

日期(qī):2016-01-13 10:01:54 人氣:114020
HL係列多弧離子(zǐ)真空鍍膜機

工作原理

HL係列多弧離子真空鍍膜機工作原理是把真空弧(hú)光放電技術用於蒸發源的技術,即在真空環境下引燃蒸(zhēng)發源(yuán)(陰極),與陽極之間(jiān)形成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點放出陰極(jí)物質的離子。由於電流局部的集中,產生的(de)焦耳熱使陰極材料局部的爆發性地等離子化(huà),在(zài)工件偏(piān)壓的(de)作用下與反(fǎn)應氣體化合,而沉(chén)積在工件表麵上(shàng)形成被鍍的膜層(céng)。

應用範圍

1、鍾表行業(表帶、表殼、表盤等)
2、五金行業(衛生(shēng)潔具、門把手、拉手、門鎖等)
3、建築行業(不鏽鋼板、樓(lóu)梯扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝棒標準(zhǔn)件模具(jù)、成型模具等)
5、工具行業(鑽頭、硬(yìng)質合金、銑刀、拉(lā)刀、刀頭)
6、汽車工業(活塞、活塞環、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等,使其表麵(miàn)得到既美觀又耐磨的功能性磨層。主要鍍製的膜層有:離(lí)子金、離(lí)子銀、氮化鈦(tài)膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以(yǐ)及RP鍍等超硬功能性金屬膜,經離子鍍膜加工(gōng)後的工件,可以提高硬度、耐磨度,抗腐蝕和(hé)美化的(de)作用。 
7、有色金屬(shǔ)製品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不(bú)需水鍍直接鍍(dù)製膜層。

產品特點

1、裝備低溫離子輔助源,無需加熱直接常溫冷鍍成(chéng)膜,節能(néng)省電,提高產能。
2、沉積速(sù)率高,鍍膜速度快,覆蓋領域廣,可(kě)以在多(duō)種產品上鍍製各類裝飾膜或功能膜,是中、高端產品大量生產的適合設備。

技術參數表

HL係列多弧離子真空(kōng)鍍膜機(jī)     
型號HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空室尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT500擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙(shuāng)KT630擴散泵機組雙(shuāng)KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統專用多弧鍍膜電源+多功(gōng)能孿生磁環弧靶+柱形弧靶(可選配)
輔助鍍(dù)膜係統低溫離子輔助源(除工具鍍外無需(xū)加(jiā)溫係統)
充氣係(xì)統質量流量計質量流量計質量流量計質量(liàng)流量計質量流量計質量流(liú)量計質量流量計
控製方式手動或全自動手動或全(quán)自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手(shǒu)動或全自動手動或全自(zì)動
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參(cān)考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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