真空蒸發鍍膜是指在真（zhēn）空（kōng）條件下（xià），通（tōng）過蒸發（fā）源加熱蒸發某種物質使（shǐ）其沉積在基板（bǎn）材料表（biǎo）麵來獲得薄膜的一種技術。

被蒸發的物質被稱為蒸鍍材料。蒸發鍍（dù）膜最早由 M.法拉第在 1857年提（tí）出，經（jīng）過一百多年的發展，現已成為主流鍍膜技術之一。

真空蒸發鍍膜係（xì）統一般由三個部分組成：真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置（zhì）。

在真（zhēn）空中為了蒸發待沉（chén）積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發（fā）物，同時需要提供蒸發（fā）熱使蒸發物達到足夠高的溫度以（yǐ）產生所需的蒸汽壓。

真空蒸發鍍膜技術具有簡單便（biàn）利、操作方便、成膜（mó）速（sù）度快等特點，是應用廣泛的鍍膜技術，主要應用於（yú）光學草莓污视频在线看器件、LED、平（píng）板顯示和（hé）半導體分立器的鍍膜。

真（zhēn）空鍍膜材料按照化學成分主要可以分（fèn）為金屬/非金屬顆粒蒸發料，氧化物蒸發料，氟化物蒸發料等。